Mercado de litografía ultravioleta extrema (EUV) por un valor de 25.300 millones de dólares para 2028

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07 de julio de 2023, 11:00 a. m. ET

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CHICAGO, 7 de julio de 2023 /PRNewswire/ -- Se espera que el mercado de litografía EUV alcance los 25.300 millones de dólares en 2028, frente a los 9.400 millones de dólares en 2023, con una tasa compuesta anual del 21,8% durante el período 2023-2028, según un nuevo informe de MarketsandMarkets. ™. Muchas empresas de semiconductores están invirtiendo en sistemas y equipos de litografía EUV, lo que brinda una oportunidad de crecimiento en el mercado de la litografía EUV. El mercado de la litografía EUV se encuentra actualmente en fase de desarrollo, con la presencia de múltiples actores que ofrecen equipos EUV. Es probable que Asia Pacífico contribuya significativamente al crecimiento del mercado de la litografía EUV. Del mismo modo, se espera que América y Europa sean el mercado en crecimiento durante el período previsto.

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Alcance del informe de mercado Litografía ultravioleta extrema (EUV):

Cobertura del informe

Detalles

Ingresos del mercado en 2023

9.400 millones de dólares

Valor estimado para 2028

25.300 millones de dólares

Tasa de crecimiento

Preparado para crecer a una tasa compuesta anual del 21,8%

Tamaño de mercado disponible para

2019-2028

Período de pronóstico

2023-2028

Unidades de pronóstico

Valor (millones de dólares/millones de dólares)

Cobertura del informe

Previsión de ingresos, panorama competitivo, factores de crecimiento y tendencias

Segmentos cubiertos

Por equipo, usuario final y región

Geografías cubiertas

América del Norte, Europa, Asia Pacífico y resto del mundo

Desafío clave del mercado

La fuente de alimentación y la productividad en la litografía EUV actúan como un desafío para el mercado

Oportunidades clave de mercado

Desarrollo de memoria avanzada para dispositivos de memoria de próxima generación

Impulsores clave del mercado

Complejidad creciente del circuito integrado

Se espera que el segmento de fuentes de luz ultravioleta extrema (EUV) crezca al CAGR más alto del mercado de equipos de litografía EUV durante el período de pronóstico.

La fuente de luz de litografía EUV es un componente crítico utilizado en los sistemas de litografía EUV dentro de la industria de semiconductores. Actualmente, la tecnología dominante para generar luz EUV es el plasma producido por láser (LP). Un ejemplo destacado de una fuente de luz LP EUV es la desarrollada por ASML, un fabricante líder de equipos semiconductores. La fuente de luz LP EUV de ASML emplea un láser de pulso de alta potencia para irradiar gotas de estaño (Sn) o una película delgada de estaño. La intensa energía del láser calienta y vaporiza rápidamente el material de estaño, lo que da como resultado la creación de plasma. A medida que el plasma se enfría y se recombina, emite luz EUV con una longitud de onda de aproximadamente 13,5 nanómetros. Este proceso es esencial para permitir la fabricación avanzada de semiconductores utilizando tecnología de litografía EUV.

Varias empresas están ampliando su negocio en fuentes de luz EUV. Por ejemplo, Energetiq Technology Inc. anunció en diciembre de 2022 que la empresa está creando un segmento comercial distinto para productos de fuentes de luz EUV. El nuevo segmento EUV Business de la empresa será responsable de reunir todo el personal central de tecnología, ingeniería, marketing, servicio de campo y operaciones bajo la dirección del director general de EUV.

Se espera que IDM tenga un crecimiento significativo en el mercado de la litografía EUV.

Un IDM, o fabricante de dispositivos integrados, es una empresa que se encarga del proceso completo de diseño, fabricación y comercialización de circuitos integrados o chips internamente. En el contexto de la litografía EUV, un IDM especializado en esta tecnología asumiría la responsabilidad total de todos los aspectos relacionados con la litografía EUV, desde el diseño y desarrollo de sistemas de litografía EUV hasta la fabricación de circuitos integrados utilizando la tecnología de litografía EUV. Como IDM en litografía EUV, la empresa poseería experiencia tanto en el diseño de sistemas de litografía EUV como en la fabricación de semiconductores. Invertirían en investigación y desarrollo (I+D) para hacer avanzar la tecnología EUVL, optimizar su rendimiento y mejorar el proceso de fabricación. Normalmente, los IDM operan sus propias instalaciones de fabricación equipadas con sistemas de litografía EUV para producir chips utilizando esta tecnología avanzada.

La litografía EUV desempeña un papel fundamental en la fabricación de semiconductores, y los IDM especializados en tecnología EUVL desempeñan un papel clave a la hora de impulsar su adopción y ampliar los límites de las capacidades de los circuitos integrados. Estas empresas contribuyen al desarrollo de dispositivos semiconductores de última generación aprovechando las ventajas que ofrece la litografía EUV.

ASML es proveedor de tecnología y sistemas de litografía EUV para IDM (fabricantes de dispositivos integrados), mientras que otras empresas como Carl Zeiss AG, TOPPAN Inc. y NTT Advanced Technology Corporation también participan activamente en el desarrollo de equipos de litografía, incluida la litografía EUV. óptica, fuentes de luz, máscaras, herramientas de metrología, sensores y productos de subconjunto de litografía EUV.

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Se espera que Corea del Sur crezca a la CAGR más alta de la región de Asia Pacífico.

Corea del Sur desempeña un papel importante en el avance y la adopción de la litografía EUV (ultravioleta extrema). El país es conocido por su fuerte presencia en la industria global de semiconductores, con actores importantes como Samsung y SK HYNIX INC. Estas empresas han estado invirtiendo activamente en tecnología EUV y integrándola en sus procesos de fabricación. Samsung ha logrado avances significativos en la litografía EUV y la ha estado utilizando para producir chips semiconductores de última generación. Con su experiencia tecnológica, capacidades de investigación y desarrollo e inversiones sustanciales en infraestructura EUV, Corea del Sur contribuye al desarrollo continuo y la implementación generalizada de la litografía EUV, impulsando la innovación en la industria de los semiconductores.

En marzo de 2023, Samsung anunció su plan de invertir 230.000 millones de dólares durante las próximas dos décadas en un megaclúster de producción de semiconductores en Corea del Sur. El nuevo campus, ubicado cerca de Yongin, contará con cinco fábricas avanzadas y tiene como objetivo convertir a Corea del Sur en el mayor productor de chips del mundo. Las instalaciones utilizarán escáneres de litografía ultravioleta extrema (EUV), lo que contribuirá a la adopción de tecnologías de fabricación de vanguardia.

Durante el período previsto, se espera que Asia Pacífico crezca a la tasa de crecimiento más alta.

La región de Asia Pacífico desempeña un papel importante en el ámbito de la litografía EUV (ultravioleta extrema), una tecnología avanzada utilizada en la fabricación de semiconductores. Al evaluar la industria de la litografía ultravioleta extrema (EUV) dentro de esta región, abarca países como China, Japón, Taiwán, Corea del Sur y otras partes de Asia Pacífico. La fuerte presencia de fabricantes de chips en estos genera una alta demanda de litografía EUV, contribuyendo a su continuo desarrollo y optimización. Además, la región de Asia Pacífico cuenta con un gran mercado de productos electrónicos de consumo, incluidos teléfonos inteligentes, tabletas y diversos dispositivos electrónicos. La creciente necesidad de semiconductores más pequeños, más rápidos y más eficientes energéticamente está impulsando la adopción de tecnologías de litografía avanzadas como EUV. La litografía EUV permite la producción de chips de alta densidad y alto rendimiento, que son cruciales para cumplir con los requisitos del mercado de electrónica de consumo en la región de Asia Pacífico.

Jugadores claves. Jugadores principales

El informe describe a los actores clave en empresas de litografía ultravioleta extrema (EUV) como ASML (Países Bajos), Carl Zeiss AG (Alemania), TOPPAN Inc. (Japón), NTT Advanced Technology Corporation (Japón), KLA Corporation (EE. UU.) y ADVANTEST CORPORATION. (Japón), Ushio Inc. (Japón), SUSS MicroTec SE (Alemania), AGC Inc. (Japón), Lasertec Corporation (Japón), NuFlare Technology (Japón), Energetiq Technology Inc. (EE. UU.), Photronics, Inc.( EE. UU.), HOYA Corporation (Japón), TRUMPF (Alemania), Rigaku Corporation (Japón), Edmund Optics Ltd. (EE. UU.), Park Systems (Corea), Zygo Corporation (EE. UU.), Imagine Optic (EE. UU.) y Applied Materials, Inc. .(A NOSOTROS).

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